Фотонные чипы без DUV-литографии: что показала китайская Prinano

Китайский стартап Prinano заявил, что смог отработать выпуск фотонных микросхем на 8-дюймовых кремниевых пластинах без применения традиционной DUV-литографии. Вместо привычного процесса, где рисунок микросхемы переносится на пластину с помощью сложной оптики и глубокого ультрафиолета, компания использует вакуумный наноимпринтинг. По сути, наноразмерный рисунок отпечатывается на поверхности с помощью специального шаблона. Если заявления подтвердятся в промышленном масштабе, это может стать важным направлением для фотонных чипов. Такие микросхемы работают не с электрическими сигналами, а со светом. Они применяются в оптоволоконной связи, дата-центрах, лазерных датчиках, лидарах и системах быстрой передачи данных. Именно в таких структурах часто встречаются повторяющиеся элементы, поэтому наноимпринтинг может быть особенно удобен. Но важно не путать эту технологию с полноценной заменой ASML для производства передовых процессоров. CPU, GPU и ИИ-ускорители требуют намного более сложных техпроцессов, высокой точности совмещения слоёв, контроля дефектов и зрелой производственной экосистемы. Prinano говорит именно о фотонных микросхемах, а не о массовом выпуске аналогов передовых чипов TSMC, Intel или Samsung. Главные вопросы пока остаются открытыми: какой выход годной продукции, сколько пластин можно выпускать, насколько стабилен процесс и кто станет первым заказчиком. Но сама идея показывает, что Китай активно ищет альтернативные пути в полупроводниках.